概述
AMAT 0190-30354是一款生产者GT UV腔室,用于半导体制造过程中的光刻工艺。它采用了先进的UV光源和光学系统,可提供高强度、均匀的紫外线照射,以准确地将图案转移到晶圆表面。
主要特点
高强度UV光源:采用高功率汞灯或氪灯,提供高强度的紫外线照射,确保图案的清晰度和保真度。
均匀的光学系统:采用精密的光学元件,确保紫外线照射的均匀性,避免图案的缺陷和畸变。
快速曝光速度:支持高速曝光,提高生产效率。
可靠性高:采用成熟的技术和高品质的材料,确保长期稳定运行。
易于维护:结构设计合理,维护方便。
应用
AMAT 0190-30354可用于各种半导体制造工艺中的光刻步骤,例如:
晶圆曝光:将光刻胶图案转移到晶圆表面。
掩模对准:将掩模与晶圆精确对准。
曝光后处理:去除未曝光的光刻胶。
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